Принцип УФ-лазерной технологии

Принцип УФ-лазерной технологии основан на генерации лазерных лучей с использованием ультрафиолетового света. Процесс включает следующие этапы:

1. Возбуждение. Высокочастотное электрическое поле воздействует на газ, вызывая ионизацию его молекул и образование свободных электронов и ионов.

2. Усиление. Эти свободные электроны и ионы объединяются, высвобождая фотоны, которые затем усиливаются, проходя через серию зеркал или линз.

3. Излучение: Усиленные фотоны испускаются в виде высокоэнергетического лазерного луча.

Длина волны лазерного луча зависит от частоты электрического поля, используемого для возбуждения молекул газа. В лазерной УФ-технологии частота достаточно высока, чтобы производить свет в ультрафиолетовом диапазоне, который имеет более короткую длину волны, чем видимый свет.

УФ-лазерная технология используется в различных приложениях, таких как микрообработка, литография, лечение и исследования. Он известен своей высокой точностью, скоростью и эффективностью, что делает его незаменимым инструментом во многих отраслях промышленности.